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논문 해외 국제전문학술지(SCI급) (Advanced Materials)Photo–roll lithography (PRL) for continuous and scalable patterning with application in flexible electronics
- 학술지 구분 국제전문학술지(SCI급)
- 게재년월 2013-09
- 저자명 Jong G. Ok, Moon Kyu Kwak, Chad M. Huard, Hong Seok Youn, L. Jay Guo
- 학술지명 Advanced Materials
- 발행국가 해외
